工业级N,N-甲基吡咯烷酮 99.5% 高纯度 NMP 锂电池溶剂光刻胶脱涂剂半导体清洗-山东硕佳化工有限公司

工业级N,N-甲基吡咯烷酮 99.5% 高纯度 NMP 锂电池溶剂光刻胶脱涂剂半导体清洗

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作为强极性高沸点溶剂，核心用于锂电池电极浆料制备，溶解粘结剂保障电芯性能；是半导体芯片光刻胶脱涂剂、IC 清洗剂，不腐蚀基材；还用于高分子材料合成、农药医药中间体溶剂及芳烃萃取。适配新能源、电子、化工等领域，稳定性强，符合高端工业溶剂标准。